特許図面ワークショップ

【会　場】 国立オリンピック記念青少年総合センター センター棟 C-511
〒151-0052　東京都渋谷区代々木神園町3-1
【日　時】 2019年10月5日（土）13：00～17：00
【内　容】



【参加費】 ■一般:\5,000-
■学生\3,000-（１回の参加で年間パスポート進呈）／学生証をご提示ください
■年間パスポート所持者:無料
【申込み】 締め切りました。
【寸　評】 前半は、言葉の意味や線種の使い分けなどの説明から、常識レベルの間違えやすい事柄のクイズが出題されました。

特許図に要求される正確さと、省略してよい部分の兼ね合いを、実務経験をもとに紹介されました。

図法の説明には、描き下ろしのイラストが多用されていました。

後半は、中身が見えない製品を使って言葉の通じない人へ説明するための説明図の作成です。

その後、分解して構造がわかった上での説明図・分解図の作成へと進みます。

特許図を体系的に学べて、発明にも役立ちそうな貴重なセミナーでした。